воскресенье, 05 сентября 2010

Новый способ электронной литографии

Наука и технологии - Нанотехнологии

Электронная литография – один из перспективных, но пока ещё достаточно сложный и дорогостоящий для коммерческого применения метод создания и промышленного производства самых различных устройств и компонентов устройств, позволяющий достигнуть разрешения в 1 нм.

В недавно опубликованной работе в журнале NanoLetters предложили использовать в качестве источника электронов тонкие плёнки излучателей β-электронов, как, например, 63Ni и Be3H2, придумав методу яркое название SPEL (self-powered electron lithography).

Оказалось, что в этом случае можно обеспечить разрешение вплоть до 35 нм, что сравнимо с теми техпроцессами, которые разрабатываются и используются на практике ведущими компаниями (Intel, AMD, IBM и т.д.) для производства новых поколений процессоров и других полупроводниковых устройств. Схема установки, приведённая на рисунке 1, чрезвычайно проста, легко масштабируема и не требует дополнительных модулей (вакуумной системы, высоковольтного источника питания и т.п.).

Тонкая плёнка нитрида кремния позволяет ослабить до приемлемых значений энергии поток β-электронов, а вольфрамовая маска эффективно поглощает электроны в тех местах, где это требуется. Полученные результаты говорят сами за себя (Рисунок 2), разрешение в 35 нм не такая уж и большая проблема.

Стоит отметить также, что данная система позволяет сразу засвечивать большие площади подложек с фоторезистом, значительно ускоряя данную процедуру (Рисунок 3).

Так как это не первая публикация данной научной группы по методу SPEL, то они решили продемонстрировать всю мощь разработки и создали массив сантиметровых размеров кремниевых наностержней (диаметр 50 нм и радиус кривизны вершины 5 нм), который отражает менее 1% падающего на него излучения (Рисунок 4).

Безусловно данная разработка найдёт своё достойное применение в различных областях нанотехнологий, ведь с такими впечатляющими характеристиками её можно использовать при создании наноустройств для компьютерной техники, в производстве высокоэффективных солнечных батарей, и даже при создании кантилеверов для атомно-силовой микроскопии.nanometer-01.JPG Рисунок 1. (A) Схема установки для SPEL. (B) 3D моделирование поведения электронов с помощью метода Монте-Карло. (С) Зависимость получаемого разрешения от Z (см. Рисунок 1a).

nanometer-02.JPG

Рисунок 2. Наноструктуры, полученные метом SPEL.

nanometer-03.JPG

Рисунок 3. (A) Зависимость потока электронов от толщины используемой плёнки источника. (B) Сравнительная характеристика время облучения – облачаемая площадь для SPEL метода с использованием 63Ni и Be3H2 и электронной литографии.

nanometer-04.JPG

Рисунок 4. (A-B) Сантиметровых размеров массив наностержней, полученный по технологии SPEL.© Результаты измерения отражающей способности данного массива.

Электро́нная литогра́фия или электро́нно-лучева́я литогра́фия — метод литографии с использованием электронного пучка. Электронный пучок сканирует поверхность электронного резиста, повторяя шаблон, заложенный в управляющий компьютер, и позволяя достигать разрешения 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов по сравнению со светом.[1] Электронная литография используется для создания масок для фотолитографии, производстве штучных компонентов, где требуется нанометровое разрешение, в промышленности и научной деятельности. [править] Системы для электронной литографии Системы электронной литографии для коммерческого применения очень дорогостоящие (> $4 млн.). Для научных исследований обычно используют электронный микроскоп, переделанный в систему электронной литографии при помощи относительно дешевых аксессуаров (< $100 тыс.). Такие переделанные системы создают ширину линии ~20 нм с 1990-х годов. Между тем, специализированное оборудование позволят получать разрешение меньше 10 нм (вплоть до 1 нм). Системы электронно-лучевой литографии можно классифицировать по форме луча и согласно стратегии отклонения луча. Старые системы использовали гауссовские пучки и сканирование производилось растровым методом. Более новые системы используют как гауссовские пучки, так и сформированную форму луча, которые могут быть отклонены в различные положения в поле записи (это также называется векторным сканированием).

Элтайм.ру, по материалам nnn

Move
-

Индустрия

Top Headline

Уже не фантастика!! Изобретён робот, способный компенсировать отсутствие или бездействие какой-либо своей конечности.

Read More...
Стандарты IEEE на «зелёное» оборудование выставлены на голосование

На голосование скоро будут выставлены два стандарта, устанавливающих критерии для экологически предпочтительного электронного оборудования.  

Read More...
IBM представила ПО для мониторинга сотовых станций

, представила новое программное обеспечение и услуги, которые помогут коммуникационным операторам получать в реальном времени информацию о состоянии и функционировании своих базовых станций сотовой связи и других объектов для улучшения управления и технического обслуживания....

Read More...
Move
-

Рынок

Top Headline
Honeywell запустила обучающий сайт по системам массового оповещения

Компания Honeywell Life Safety открыла сайт, посвященный обучению работе с системами аварийной связи (известными также под названием системы массового оповещения).

Read More...
Sharp сокращает объёмы производства LCD

Крупнейший производитель индустриальных LCD-дисплеев - корпорация Sharp - сократит производство LCD-панелей в ближайшие два месяца, начиная с конца августа.

Read More...
Доходы производителей микросхем растут рекордными темпами

Аналитическое агентство IC Insights сообщило, что объемы продаж большинства крупных производителей памяти и фаундри-компаний выросли. По оценкам IC Insights, мировой рынок полупроводников в 2010 г. продемонстрирует самый высокий объем сбыта в долларовом исчислении за всю историю развития...

Read More...
Август 2010 Сентябрь 2010 Октябрь 2010
Mo Tu We Th Fr Sa Su
1 2 3 4 5
6 7 8 9 10 11 12
13 14 15 16 17 18 19
20 21 22 23 24 25 26
27 28 29 30
MICRO Technology EXPO – Микротехнологии 2010
Октября 12, 2010(08:00) - Октября 15, 2010 (09:00)
- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -
DISPLAY - 2010
Октября 26, 2010(08:00) - Октября 29, 2010 (09:00)
- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -
>>> Все мероприятия электроники

Последние новости

  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • 7
  • 8

Вход и выход здесь