- Компания Honeywell Life Safety открыла сайт, посвященный обучению работе...
- Уже не фантастика!! Изобретён робот, способный компенсировать о...
- Крупнейший производитель индустриальных LCD-дисплеев - корпорац...
- Сотрудники Университета Пердью (США) создали оптический метама...
- Исследователи из Объединенного института лабораторной астроф...
- Аналитическое агентство IC Insights сообщило, что объемы продаж бол...
- Компания Molex завершила 2010 финансовый год с оборотом 3,0 миллиар...
- Компания Vishay достигла во втором квартале 2010 года уровня оборот...
- Тайваньская компания Acer стала крупнейшим поставщиком компьюте...
- Инженеры Стэнфордского университета работают над созданием но...
Нанотехнологии
Новый способ электронной литографии
Наука и технологии - Нанотехнологии
Электронная литография – один из перспективных, но пока ещё достаточно сложный и дорогостоящий для коммерческого применения метод создания и промышленного производства самых различных устройств и компонентов устройств, позволяющий достигнуть разрешения в 1 нм.
В недавно опубликованной работе в журнале NanoLetters предложили использовать в качестве источника электронов тонкие плёнки излучателей β-электронов, как, например, 63Ni и Be3H2, придумав методу яркое название SPEL (self-powered electron lithography).
Оказалось, что в этом случае можно обеспечить разрешение вплоть до 35 нм, что сравнимо с теми техпроцессами, которые разрабатываются и используются на практике ведущими компаниями (Intel, AMD, IBM и т.д.) для производства новых поколений процессоров и других полупроводниковых устройств. Схема установки, приведённая на рисунке 1, чрезвычайно проста, легко масштабируема и не требует дополнительных модулей (вакуумной системы, высоковольтного источника питания и т.п.).
Тонкая плёнка нитрида кремния позволяет ослабить до приемлемых значений энергии поток β-электронов, а вольфрамовая маска эффективно поглощает электроны в тех местах, где это требуется. Полученные результаты говорят сами за себя (Рисунок 2), разрешение в 35 нм не такая уж и большая проблема.
Стоит отметить также, что данная система позволяет сразу засвечивать большие площади подложек с фоторезистом, значительно ускоряя данную процедуру (Рисунок 3).
Так как это не первая публикация данной научной группы по методу SPEL, то они решили продемонстрировать всю мощь разработки и создали массив сантиметровых размеров кремниевых наностержней (диаметр 50 нм и радиус кривизны вершины 5 нм), который отражает менее 1% падающего на него излучения (Рисунок 4).
Безусловно данная разработка найдёт своё достойное применение в различных областях нанотехнологий, ведь с такими впечатляющими характеристиками её можно использовать при создании наноустройств для компьютерной техники, в производстве высокоэффективных солнечных батарей, и даже при создании кантилеверов для атомно-силовой микроскопии. Рисунок 1. (A) Схема установки для SPEL. (B) 3D моделирование поведения электронов с помощью метода Монте-Карло. (С) Зависимость получаемого разрешения от Z (см. Рисунок 1a).
Рисунок 2. Наноструктуры, полученные метом SPEL.
Рисунок 3. (A) Зависимость потока электронов от толщины используемой плёнки источника. (B) Сравнительная характеристика время облучения – облачаемая площадь для SPEL метода с использованием 63Ni и Be3H2 и электронной литографии.
Рисунок 4. (A-B) Сантиметровых размеров массив наностержней, полученный по технологии SPEL.© Результаты измерения отражающей способности данного массива.
Электро́нная литогра́фия или электро́нно-лучева́я литогра́фия — метод литографии с использованием электронного пучка. Электронный пучок сканирует поверхность электронного резиста, повторяя шаблон, заложенный в управляющий компьютер, и позволяя достигать разрешения 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов по сравнению со светом.[1] Электронная литография используется для создания масок для фотолитографии, производстве штучных компонентов, где требуется нанометровое разрешение, в промышленности и научной деятельности. [править] Системы для электронной литографии Системы электронной литографии для коммерческого применения очень дорогостоящие (> $4 млн.). Для научных исследований обычно используют электронный микроскоп, переделанный в систему электронной литографии при помощи относительно дешевых аксессуаров (< $100 тыс.). Такие переделанные системы создают ширину линии ~20 нм с 1990-х годов. Между тем, специализированное оборудование позволят получать разрешение меньше 10 нм (вплоть до 1 нм). Системы электронно-лучевой литографии можно классифицировать по форме луча и согласно стратегии отклонения луча. Старые системы использовали гауссовские пучки и сканирование производилось растровым методом. Более новые системы используют как гауссовские пучки, так и сформированную форму луча, которые могут быть отклонены в различные положения в поле записи (это также называется векторным сканированием).
Индустрия
Уже не фантастика!! Изобретён робот, способный компенсировать отсутствие или бездействие какой-либо своей конечности.
Read More...На голосование скоро будут выставлены два стандарта, устанавливающих критерии для экологически предпочтительного электронного оборудования.
Read More..., представила новое программное обеспечение и услуги, которые помогут коммуникационным операторам получать в реальном времени информацию о состоянии и функционировании своих базовых станций сотовой связи и других объектов для улучшения управления и технического обслуживания....
Read More...Рынок
Компания Honeywell Life Safety открыла сайт, посвященный обучению работе с системами аварийной связи (известными также под названием системы массового оповещения).
Read More...Крупнейший производитель индустриальных LCD-дисплеев - корпорация Sharp - сократит производство LCD-панелей в ближайшие два месяца, начиная с конца августа.
Read More...Аналитическое агентство IC Insights сообщило, что объемы продаж большинства крупных производителей памяти и фаундри-компаний выросли. По оценкам IC Insights, мировой рынок полупроводников в 2010 г. продемонстрирует самый высокий объем сбыта в долларовом исчислении за всю историю развития...
Read More...Читайте также:
- Исследовательский институт Honda создал новый класс нанотрубок
- Получены металлические проводники внутри углеродных нанотрубок
- Наноантенны для терагерцовой передачи данных
- «Роснано» создает международный фонд объемом $1 млрд
- Интел собирается перейти на технологию 11 нм в 2015 году
- Новый метод перемещения объектов в микрожидкостных чипах
- IBM предлагает альтернативу литографии
- Электромиграция в наноразмерных металлических проводах
Последние новости
-
Honeywell запустила обучающий сайт по системам массового оповещения Компания Honeywell Life Safety открыла сайт, посвященный обучению работе с системами аварийной связи (известными также...
-
Непобедимый робот-трансформер Уже не фантастика!! Изобретён робот, способный компенсировать отсутствие или бездействие какой-либо своей конечности....
-
Sharp сокращает объёмы производства LCD Крупнейший производитель индустриальных LCD-дисплеев - корпорация Sharp - сократит производство LCD-панелей в ближайшие...
-
Создан усиливающий метаматериал Сотрудники Университета Пердью (США) создали оптический метаматериал с отрицательным показателем преломления,...
-
Найдена схожесть между поведением холодных газов и сверхпроводимостью Исследователи из Объединенного института лабораторной астрофизики (JILA) совместно с итальянскими теоретиками...
- 1
- 2
- 3
- 4
- 5
- 6
- 7
- 8
ТОП-7 научных новостей
- Завершены испытания ракеты SM-6
- Ядерная батарейка размером с монетку
- Рекорд эффективности солнечных батарей
- Акустический пинцет для атомов
- ВМС США испытали дистанционный генератор звука под водой
- Исследовательский институт Honda создал новый класс нанотрубок
- Взлом века: получены исходники 3300 глобальных проектов рунета!

